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      工业清洗剂

      晶圆清洗剂

      PL31晶圆清洗剂

      类别:晶圆清洗剂

      简介: 本品专用于晶圆芯片、高端光学制品的清洗,具有极强的清洗力,能快速有效祛除产品表面可移动不可移动残留物,如:氧化硅抛光液残留、光刻胶残留、粉尘颗粒物、油污等;清洗效果稳定,不伤镀膜层。

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      本品专用于晶圆芯片、高端光学制品的清洗,具有极强的清洗力,能快速有效祛除产品表面可移动不可移动残留物,如:氧化硅抛光液残留、光刻胶残留、粉尘颗粒物、油污等;清洗效果稳定,不伤镀膜层。


      用途特性            

      ? 高性价比,能整体有效的降低清洗和维护成本;

      ? 对人无毒、无闪点,使用安全得到保障;

      ? 高效:在设定的工作条件下,510分钟即可将污垢洗净;

      ? 无腐蚀:对材料相容性好。

        

      主要技术指标         

      外观(原液)          

      无色透明液体

      比重             

      1.06±0.01

      PH            

      1011

      气味             

       

       

      使用方法

      建议原液使用,可适当稀释使用,稀释比例不超过20倍;

      温度:50-60     时间:5-10分钟

      注意:清洗设备建议选择高频超声波清洗,避免因频率过高震伤产品。


       注意事项  

                       

      如不慎进入眼中应立即用清水冲洗,人工清洗时,请配戴防护手套;    

      储存于阴凉干燥处,避免阳光直射

      包装规格

      25KG/桶

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